可能的新算法

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对每条边按其视觉长度自适应做照相机射线相交检查，在遮挡层数交替的采样点之间二分查找，也是自适应次数或者可调，能够提供视觉上准确的切点位置。每条边两端的点不采样，而是向内收缩一些（一步），若所有样点的遮挡层数一致（或者在简化的情况下，可见性一致）则无需记录和任何切点，这可以大幅降低使用锁的频率。

与经典采样算法的区别：

经典的按边采样算法对每条边采样一次（Freestyle）或者固定次数（对于 DPIX 的 GPU Atlas 实现是 16）对具有不同细节层次的模型的鲁棒性差。由于 Line Art 已经具备投影后所有点线面在帧中的位置，因此十分容易实现自适应可见性采样间隔，并仍然保留已有的面遮罩属性功能。

好处：

• 更加兼容密集与带有细三角形的网格结构，能自然地容忍浮点数精度问题引起的遮挡查询不稳定的情况，因为单一的问题值只影响单个自适应步进段而不会导致下游所有段出现问题。
• 不需要或者只需要建立不那么密集的二维查找树，不需要在三角形密集时过度细分查找树。
• 能够一定程度上自适应细节层次，视觉上微小的边不需要花同样多的时间计算。
• 原理上更适合应用于计算有机造型物体的特征线，但对于机械造型对象应当也适合，只是性能提升不如应用于有机造型几何体那么明显。对于正交视图，自适应射线检查算法比现有算法更不易出现误判。

不确定的问题：

• EMBREE建立BVH树可能消耗更长时间（基于2022年的试验），而且不能剔除局部不可见的几何体。这会一定程度上抵消使用现有二维加速结构带来的性能提升，因为目前的实现已经非常快。
• 不清楚EMBREE的射线相交运算是否返回足够的信息以维持目前算法所具备的“材质遮罩”等功能。
• 原则上这个新的遮挡检查算法也适用于阴影和轮廓计算阶段，但有可能仍需要完整的2D加速结构，具体情况尚待研究。

回复给主题帖：

+2	#288	Line Art Line Art 是我编写在Blender中的一个风格线绘制工具。它在几何层面计算并生成三维物体的特征线。 这个话题包含了Line Art的工作记录，更详细的信息可以在Blender开发者网↗上找到。

结合布尔拒绝进行保证闭合运算 原则上可行

将颜料混合做进blender里的切入点可以是制作一个颜料调色盘工具，最简单的实现是一个Python工具并且硬编码某些颜料的光谱，使用按钮调用模态工具混合，可能需要一个自定义颜色显示挂件（不知道如何做），最终颜色将设置到普通画笔颜色。

做这个之前可以先为好得涂制作红绿蓝模式下使用调色盘获取近似红绿蓝颜色值的功能。

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