怎么搞一搞的还是要去阿姆斯特丹，，，

Yiming's News 2026/01/26

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补充说明该项目电路的情况：

• 灯光和开关的焊接和走线均没有问题。
• 设备后部装配涉及外壳在主电磁铁上旋转，线槽结构设计时未考虑这个装配过程，同时整体结构考虑紧实程度，未留更多空隙走线，因此后部主控未能较方便地安装。
• 开关结构考虑到结构强度和建模复杂性，做成了外壳一体，装配原则上可行但非常麻烦，此外模式开关需要502固定，一侧的开关被不小心粘死。

总体结果就是外观不影响，但确实不能方便地引出电路，因此不再继续电路部分。

此后的设计可以考虑为纯静态（仅手动活动结构）或者做可以在主体完全装配的情况下开启的走线结构，并分离开关固定结构以简化安装。

未命名（某个楼顶）

该连锁故障模式前所未有的复杂程度可能使该起事故成为工程史上又一个里程碑式的事件。

将来要么会出现更有效的理论来指导复杂机电系统内部组件间的解耦合，要么会出现数学上对这类系统可靠性理论极限的证明，或二者皆有之。

具体对起故障来说，可以认为它的源头是人类对看不见摸不着的电磁系统所具备的能量和瞬态行为很难建立感性的认识，因此无法从直觉上避免鲁棒性差的拓扑结构而不求助于往往也仅限于某些已预期工况下的模拟。

写半天忘保存了。。。

Yiming's News 2025/12/27

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做了个乘法混合模式（也称正片叠底）

OK that's about it this time lol

可能的新算法

EN^↗

对每条边按其视觉长度自适应做照相机射线相交检查，在遮挡层数交替的采样点之间二分查找，也是自适应次数或者可调，能够提供视觉上准确的切点位置。每条边两端的点不采样，而是向内收缩一些（一步），若所有样点的遮挡层数一致（或者在简化的情况下，可见性一致）则无需记录和任何切点，这可以大幅降低使用锁的频率。

与经典采样算法的区别：

经典的按边采样算法对每条边采样一次（Freestyle）或者固定次数（对于 DPIX 的 GPU Atlas 实现是 16）对具有不同细节层次的模型的鲁棒性差。由于 Line Art 已经具备投影后所有点线面在帧中的位置，因此十分容易实现自适应可见性采样间隔，并仍然保留已有的面遮罩属性功能。

好处：

• 更加兼容密集与带有细三角形的网格结构，能自然地容忍浮点数精度问题引起的遮挡查询不稳定的情况，因为单一的问题值只影响单个自适应步进段而不会导致下游所有段出现问题。
• 不需要或者只需要建立不那么密集的二维查找树，不需要在三角形密集时过度细分查找树。
• 能够一定程度上自适应细节层次，视觉上微小的边不需要花同样多的时间计算。
• 原理上更适合应用于计算有机造型物体的特征线，但对于机械造型对象应当也适合，只是性能提升不如应用于有机造型几何体那么明显。对于正交视图，自适应射线检查算法比现有算法更不易出现误判。

不确定的问题：

• EMBREE建立BVH树可能消耗更长时间（基于2022年的试验），而且不能剔除局部不可见的几何体。这会一定程度上抵消使用现有二维加速结构带来的性能提升，因为目前的实现已经非常快。
• 不清楚EMBREE的射线相交运算是否返回足够的信息以维持目前算法所具备的“材质遮罩”等功能。
• 原则上这个新的遮挡检查算法也适用于阴影和轮廓计算阶段，但有可能仍需要完整的2D加速结构，具体情况尚待研究。

回复给主题帖：

+2	#288	Line Art Line Art 是我编写在Blender中的一个风格线绘制工具。它在几何层面计算并生成三维物体的特征线。 这个话题包含了Line Art的工作记录，更详细的信息可以在Blender开发者网↗上找到。

将颜料混合做进blender里的切入点可以是制作一个颜料调色盘工具，最简单的实现是一个Python工具并且硬编码某些颜料的光谱，使用按钮调用模态工具混合，可能需要一个自定义颜色显示挂件（不知道如何做），最终颜色将设置到普通画笔颜色。

做这个之前可以先为好得涂制作红绿蓝模式下使用调色盘获取近似红绿蓝颜色值的功能。

前几天

Yiming's News 2025/11/04

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